14.12.2015 - Mit einem neuen Verfahren stellen Forscher der Technischen Universität München (TUM) und der Ludwig-Maximilians-Universität München (LMU) hauchdünne, robuste und gleichzeitig hochporöse Halbleiterschichten her. Ein viel versprechendes Material ? beispielsweise für kleine, leichte und langlebige... zum vollen Artikel bei enbausa.de
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