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Fraunhofer IWS: Atmosphärendruck-Plasmaverfahren zur Kostenreduzierung in der Silizium-Photovoltaik

31.5.2008 - Das Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS in Dresden entwickelt gegenwärtig Plasmaprozesse zum Ätzen und Beschichten, die nicht im Vakuum sondern bei Atmosphärendruck ablaufen. zum vollen Artikel bei sonnenseite.com

Quelle: aus dem News-Feed: Sonnenseite.com entnommen (sonnenseite.com).

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