11.6.2013 - Wissenschaftler am Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP haben einen neuen Vakuumbeschichtungsprozess entwickelt, der in Ergänzung zu bestehenden Vakuumverfahren, wie dem Magnetron-Sputtern oder Bedampfen, die Abscheidung neuer Schichtsysteme und Materialien mit sehr hoher Beschichtungsrate ermöglicht. Anwendungsfelder sind unter anderem auch Permeationsbarrieren für Photovoltaik-Module und organische Elektronik. zum vollen Artikel bei solarportal24.de
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